四氟甲烷（CF4）具有高穩(wěn)定性，屬于完全不燃?xì)怏w，常溫下不與酸、堿及氧化劑反應(yīng)，900℃以下不與Cu,Ni,W,Mo等過(guò)渡金屬反應(yīng)，1000℃以下不與碳、氫及CH4反應(yīng)。室溫下可與液氨-金屬鈉試劑反應(yīng)，高溫下CF4可與堿金屬、堿土金屬及SiO2反應(yīng),生成相應(yīng)的氟化物。CF4在800℃下開(kāi)始分解，在電弧作用下可與CO和CO2反應(yīng)生成COF2，有人還試圖在碳弧溫度中使CF4聚合來(lái)合成其他碳氟化合物。

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子體蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超凈、多品種、多規(guī)格，各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)發(fā)展，越來(lái)越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言，四氟化碳（CF4）以其相對(duì)低廉的價(jià)格長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體市場(chǎng)，因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿?。下游產(chǎn)品例舉：硅薄膜材料、二氧化硅薄膜材料、氮化硅薄膜材料、磷硅玻璃薄膜材料、鎢薄膜材料等薄膜材料、電子器件表面清洗劑、太陽(yáng)能電池、去污劑、潤(rùn)滑劑、制動(dòng)液、安全自爆防爆式干粉滅火器。

化工原材料效果好不好？公司很重要

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